每个连接点的间距小于10微米公布了突破摩尔定律的三种新技术

，根据外媒 VideoCardz 报道，英特尔今日发表文章，公布了突破摩尔定律的三种新技术这些技术的目标是在 2025 年之后，还能够使得芯片技术继续发展

在在 2021 年 IEEE 国际电子设备会议上，英特尔公布了多芯片混合封装互联密度提高 10 倍，晶体管密度提升 30%—50%，新的电源和存储器技术以及量子计算芯片技术等等。

英特尔阐述了目前已经公布的一些创新技术，包括 Hi—K 金属栅极，FinFET 晶体管，RibbonFET 等在路线图中，英特尔还展现了多种芯片工艺，其中包括 Intel 20A 制程，将逻辑门的体积进一步缩小，名为 Gate All Around

英特尔公布的三大技术突破

以下具体内容:

1，英特尔新型 3D 堆叠，多芯片封装技术:Foveros Direct

这项技术应用于多种芯片混合封装的场景，可以将不同功能，不同制程的芯片以相邻或者层叠的方式结合在一起Foveros Direct 技术使得上下芯片之间的连接点密度提升了 10 倍，每个连接点的间距小于 10 微米

这项技术支持将 CPU，GPU，IO 芯片紧密结合在一起，同时还兼容来自在不同厂商的芯片混合进行封装。当Gelsinger担任VMware首席执行官时，他通过促进VMware和英伟达之间的战略合作，在英伟达的GPU虚拟化产品中发挥了基础性作用。但现在他是英特尔的首席执行官。Gelsinger表示，在软件方面，英特尔需要比英伟达更加开放。。

官方表示，该方案有较高的灵活性，支持客户依据不同的需求灵活定制芯片组合此外，英特尔呼吁业界制定统一的标准，便于不同芯片之间的互联

英特尔于 2021 年 7 月展现了 RibbonFET 新型晶体管架构，作为 FinFET 的替代全新的封装方式可以将 NMOS 和 PMOS 堆叠在一起，紧密互联，从而在空间上提高芯片的晶体管密度这种方式能在制程不便的情况下，将晶体管密度提升 30% 至 50%，延续摩尔定律

此外，英特尔还表示可以将二维材料引入芯片的制造中，可以使得连接距离更短，解决传统硅芯片的物理限制这种二维材料为单层二硫化钼 MoS₂，应用于硅芯片连接层可以使得间距从 15nm 缩小至 5nm

2，更高效的电源技术和 DRAM 内存芯片技术

目前英特尔已经首次实现在 300 毫米硅晶圆上，制造拥有 GaN 氮化镓开关的 CMOS 芯片这项电源技术支持更高的电压，成品电源管理芯片可以更加精准快速地控制 CPU 的电压，有助于减少损耗，此外，这种芯片还能够减少主板上的供电元件

上图右侧展现的是英特尔研发的低延迟内存技术:FeRAM这种芯片将铁元素引入芯片的制造，可以大大提高内存芯片的读写速度，在 2 纳秒内完成读写同时，FeRAM 技术能够提高内存芯片的密度

3，基于硅芯片的量子运算芯片，有望在将来取代 MOSFET 晶体管

伴随着未来晶体管密度进一步提升，传统的硅芯片将走向物理极限在 IEDM 2021 大会，英特尔展示了世界上第一个在室温下实现磁电自旋轨道的逻辑器件这代表了制造纳米尺度的量子运算晶体管成为可能

英特尔和 IMEC 正在自旋电子材料研究方面取得进展，预计未来可以制造出能够量产的全功能器件此外，英特尔还展示了与目前 CMOS 芯片兼容的 300mm 晶圆量子运算电路的制造，并确立了未来的研究方向